一、变化了什么：一部施行二十五年的行政法规迎来首次修订
国务院第842号令公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》，2026年7月10日经国务院第91次常务会议修订通过，2026年7月23日公布，自2026年10月15日起施行。这是该条例自2001年公布施行以来的首次修订，条例共六章五十四条。配套《集成电路布图设计保护条例实施细则》由国家知识产权局令第八十六号公布，自2026年10月30日起施行，细则共七章五十六条。
二、影响谁：企业、科研机构与代理机构各需关注
企业侧，芯片设计、半导体制造、光通信与量子计算相关主体受影响最直接。条例首次明确"对集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计，可以依照本条例的规定予以保护"，保护对象从传统半导体集成电路扩展到新形态。
科研机构侧，涉及国家安全或者重大利益的布图设计需按保密规定办理；职务创作归属、合作创作与委托创作约定直接影响专有权归属。
代理机构侧，条例要求专利代理机构对被代理人布图设计中未公开的内容负有保密责任，泄露未公开内容将依照《专利代理条例》处罚。
三、关键数字清单：八组可直接对照的数额
1. 25年：现行条例2001年公布施行，2026年为首次修订。2. 10年：布图设计专有权保护期为10年，自登记申请之日或世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。3. 15年：无论是否登记或投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后不再受保护。4. 2年：布图设计自世界任何地方首次商业利用之日起2年内未提出登记申请的，不再予以登记。5. 3个月：对驳回登记申请决定不服的，可自收到通知之日起3个月内请求复审；许可他人使用的合同自生效之日起3个月内向国务院知识产权行政部门备案。6. 1倍至5倍：对故意侵犯布图设计专有权、情节严重的，可以在按实际损失或侵权获利确定数额的1倍以上5倍以下确定赔偿数额。7. 842号：国务院令编号。8. 10月15日与10月30日：条例施行日期为2026年10月15日，配套细则施行日期为2026年10月30日。
四、现在该做什么：四条可执行动作
第一，核对存量布图设计。已投入商业利用但未登记的布图设计，检查首次商业利用日期是否在2年期限内，赶在期限届满前提交登记申请。第二，准备独创性声明。新条例要求申请时提交独创性声明，指明具有独创性的设计区域、设计要点及相应功能；复制件或图样需清楚显示独创性部分。第三，明确权利归属。职务创作、合作创作、委托创作三类情形，按条例第十三条至第十五条在合同或单位制度中明确创作者与专有权归属，避免后续转让、许可、出质时产生纠纷。第四，更新侵权应对策略。新条例引入1倍以上5倍以下惩罚性赔偿，企业应在发现侵权后及时固定证据、计算损失或侵权获利，必要时请求国家知识产权局处理或向人民法院起诉。
五、服务内容
成都立新致创知识产权代理事务所（特殊普通合伙）深耕四川成都、辐射全国，面向企业、高校、科研院校、个人发明人提供集成电路布图设计登记、发明专利布局、实用新型申请、软件著作权登记、商标注册，以及高新技术企业、专精特新等项目配套服务。
六、适用主体
覆盖企业、高校、科研院校、个人发明人等。无论是芯片设计企业的版图登记，还是科研机构的光子、量子集成电路成果确权，均可按本条例规定的程序节点安排材料准备与提交。
数据来源：国务院《集成电路布图设计保护条例》（国务院令第842号，2026年7月23日公布，自2026年10月15日起施行），国家知识产权局《集成电路布图设计保护条例实施细则》（国家知识产权局令第八十六号，2026年9月30日公布，自2026年10月30日起施行）。本文更新日期：2026年10月8日。具体适用以官方最新公布条文为准。
如需了解专利代理机构相关的布图设计登记与知识产权布局事项，可与本所联系，我们会依据现行条例逐项核对后再给出处理方案。
